Si3N4 possiede elevata purezza, distribuzione granulometrica ristretta e maggiore area superficiale specifica;
Elevata attività superficiale, bassa densità apparente, riflettività UV superiore al 95% e tasso di assorbimento della banda infrarossa superiore al 97%
| Articolo | Purezza | APS | SSA | Colore | Formazione dei cristalli | Morfologia | Densità apparente |
| Si3N4 | >99,9% | 20 nm | 93m2/g | Bianco | amorfo | sferico | 0,09 g/cm3 |
| Si3N4 | >99,9% | 100 nm | 65m2/g | Grigio Bianco | Alfa | cubico a facce centrate | 0,23 g/cm3 |
| Si3N4 | >99,9% | 800 nm | 49m2/g | Grigio Verde Chiaro | Alfa | cubico a facce centrate | 0,69 g/cm3 |
| Marca | Epoch-Chem | ||||||
1) Dispositivo di struttura di produzione: come la metallurgia, l'industria chimica, meccanica, aeronautica, aerospaziale e l'industria energetica per utilizzare cuscinetti a sfere e a rulli, cuscinetti radenti, manicotti, valvole e componenti strutturali resistenti all'usura, alle alte temperature e alla corrosione richiesti.
2) Trattamento superficiale di metalli e altri materiali: come stampi, utensili da taglio, pale di turbine, rotori di turbine e rivestimenti delle pareti dei cilindri.
3) Materiali compositi: come metalli, ceramiche e compositi di grafite, gomma, plastica, rivestimenti, adesivi e altri compositi a base di polimeri.
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