Tetracloruro di afnio | HfCl4 in polvere | CAS 13499-05-3 | prezzo di fabbrica

Tetracloruro di afnio | Polvere di HfCl4 | CAS 13499-05-3 | Prezzo di fabbrica Immagine in evidenza

Breve descrizione:

Il tetracloruro di afnio trova importanti applicazioni come precursore dell'ossido di afnio, catalizzatore per sintesi organica, applicazioni nucleari e deposizione di film sottili, evidenziando la sua versatilità e importanza in vari campi tecnologici.

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Dettagli del prodotto

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Descrizione del prodotto

Breve introduzione

Nome del prodotto: tetracloruro di afnio
Numero CAS: 13499-05-3
Formula del composto: HfCl4
Peso molecolare: 320,3
Aspetto: polvere bianca

Specificazione

Articolo	Specificazione
Aspetto	Polvere bianca
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Applicazione

Precursore del biossido di afnio: Il tetracloruro di afnio viene utilizzato principalmente come precursore per la produzione di biossido di afnio (HfO₂), un materiale con eccellenti proprietà dielettriche. L'HfO₂ è ampiamente utilizzato nelle applicazioni dielettriche ad alta k per transistor e condensatori nell'industria dei semiconduttori. L'HfCl₂ è essenziale nella produzione di dispositivi elettronici avanzati grazie alla sua capacità di formare film sottili di biossido di afnio.
Catalizzatore di sintesi organica: Il tetracloruro di afnio può essere utilizzato come catalizzatore per diverse reazioni di sintesi organica, in particolare la polimerizzazione delle olefine. Le sue proprietà di acido di Lewis contribuiscono alla formazione di intermedi attivi, migliorando così l'efficienza delle reazioni chimiche. Questa applicazione è preziosa nella produzione di polimeri e altri composti organici nell'industria chimica.
Applicazione nucleare: Grazie alla sua elevata sezione d'urto di assorbimento dei neutroni, il tetracloruro di afnio è ampiamente utilizzato nelle applicazioni nucleari, in particolare nelle barre di controllo dei reattori nucleari. L'afnio può assorbire efficacemente i neutroni, quindi è un materiale adatto per regolare il processo di fissione, contribuendo a migliorare la sicurezza e l'efficienza della produzione di energia nucleare.
Deposizione di film sottile: Il tetracloruro di afnio viene utilizzato nei processi di deposizione chimica da vapore (CVD) per formare film sottili di materiali a base di afnio. Questi film sono essenziali in una varietà di applicazioni, tra cui microelettronica, ottica e rivestimenti protettivi. La capacità di depositare film uniformi e di alta qualità rende l'HfCl4 prezioso nei processi di produzione avanzati.