Hafnium tetracloruro | Polvere hfcl4 | CAS 13499-05-3 | Prezzo di fabbrica

Breve descrizione:

Il tetracloruro di hafnium ha importanti applicazioni come precursore dell'ossido di hafnium, catalizzatore per la sintesi organica, applicazioni nucleari e deposizione di film sottile, evidenziando la sua versatilità e importanza in vari campi tecnologici.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Invia email a noi

Dettaglio del prodotto

Tag del prodotto

Descrizione del prodotto

Breve introduzione

Nome prodotto: tetracloruro di hafnium
CAS n.: 13499-05-3
Formula composta: HFCL4
Peso molecolare: 320.3
Aspetto: polvere bianca

Specifiche

Articolo	Specifiche
Aspetto	Polvere bianca
HFCL4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200pm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20pm
Si	≤40ppm
Mg	≤20pm
Cr	≤20pm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Applicazione

Precursore di biossido di hafnium: Il tetracloruro di hafnium viene utilizzato principalmente come precursore per produrre biossido di hafnium (HFO2), un materiale con eccellenti proprietà dielettriche. HFO2 è ampiamente utilizzato in applicazioni dielettriche ad alto K per transistor e condensatori nel settore dei semiconduttori. HFCL4 è essenziale nella produzione di dispositivi elettronici avanzati grazie alla sua capacità di formare film sottili di biossido di hafnium.
Catalizzatore di sintesi organica: Il tetracloruro di hafnium può essere usato come catalizzatore per varie reazioni di sintesi organica, in particolare la polimerizzazione olefina. Le sue proprietà di acido Lewis aiutano a formare intermedi attivi, migliorando così l'efficienza delle reazioni chimiche. Questa applicazione è preziosa nella produzione di polimeri e altri composti organici nell'industria chimica.
Applicazione nucleare: A causa della sua elevata sezione trasversale di assorbimento di neutroni, il tetracloruro di hafnium è ampiamente utilizzato nelle applicazioni nucleari, in particolare nelle aste di controllo dei reattori nucleari. L'hafnium può assorbire efficacemente i neutroni, quindi è un materiale adatto per la regolazione del processo di fissione, che aiuta a migliorare la sicurezza e l'efficienza della generazione di energia nucleare.
Deposizione di film sottile: Il tetracloruro di hafnium viene utilizzato nei processi di deposizione di vapore chimico (CVD) per formare film sottili di materiali a base di hafnium. Questi film sono essenziali in una varietà di applicazioni, tra cui microelettronica, ottica e rivestimenti protettivi. La capacità di depositare film uniformi e di alta qualità rende HFCL4 prezioso nei processi di produzione avanzati.